투자 증가분까지 합치면 대기업은 25% 까지 늘어나
경기침체 때 활용했던 임시세액공제 12년 만에 부활
앞으로 반도체산업 시설에 투자하는 대기업은 투자액의 15%를 세금에서 감면받게 된다. 추가 투자 증가분에 대한 혜택까지 감안하면 시설투자 세액공제율은 최대 25%까지 올라간다.
정부는 3일 이 같은 내용의 반도체 투자 세제지원 강화 방안을 발표했다. 정부안에 따르면 반도체·배터리·백신·디스플레이 등 국가전략기술의 당기(연간) 시설투자에 대한 세액공제율이 대기업 기준 현재 8%에서 15%로 올라간다. 공제율을 현재의 2배 수준으로 올려 세제 혜택을 늘려주겠다는 의미다.
이에 따라 정부는 지난해 12월 23일 국회에서 관련 법이 통과된 지 11일 만에 추가 감세 방침을 공식화했다. 반도체 세제 지원이 '충분한 수준'이라는 기존 입장을 바꿔 별도 지원안을 마련하고, 수조원 규모의 세수를 포기하기로 한 것이다.
정부의 세제 지원안에 따르면 삼성전자가 앞으로 반도체 생산시설에 1조원을 투자하면 1500억원의 세금을 감면받을 수 있다. 이와 별도로 올해 투자 증가분(직전 3년 평균치 대비)에 대해서는 국가전략기술 여부와 상관없이 10%의 추가 공제 혜택이 주어진다. 따라서 반도체 등 전략 분야에서 신규 사업에 뛰어드는 대기업은 당기분과 증가분을 더해 최고 25%의 세액공제를 받을 수 있다.
중소기업의 경우 당기 공제율이 현재 16%에서 25%로 올라간다. 투자 증가분을 포함한 최고 세액공제율은 35%다. 국가전략기술 연구개발(R&D) 투자의 경우 현행 제도대로 세계 최고 수준인 30∼50% 수준의 공제 혜택이 주어진다.
정부는 2011년 이후 중단됐던 임시투자세액공제를 올해 12년 만에 다시 도입하기로 했다. 과거 경기가 침체됐을 때 활용했던 임시투자세액공제는 투자 업종이나 목적과 상관없이 기업 투자에 일정 수준의 추가 세제 혜택을 주는 제도다.
우선 일반 투자에 대한 세액공제율이 현재 1∼10%에서 3∼12%로 2%포인트씩 일괄적으로 높아진다. 신성장·원천기술의 경우 공제율을 3∼12%에서 6∼18%로 기업 규모에 따라 3∼6%포인트씩 높인다. 올해 신성장·원천기술에 투자하는 대기업은 6%, 중견기업은 10%, 중소기업은 18%씩 공제 혜택을 받게 된다.
이번 지원 방안은 올해 1월 1일 투자분부터 소급 적용할 수 있도록 입법을 추진한다. 정부는 관련 법 개정안을 1월 중 마련해 조속히 국회에서 심의하도록 할 방침이다.
앞서 국회는 올해부터 대기업의 국가전략기술 시설투자 세액공제율을 종전 6%에서 8%로 올리는 내용의 조세특례제한법 개정안을 정부안대로 의결했다. 이는 당초 국민의힘 반도체특위가 제시한 20%(대기업 기준)는 물론 야당인 더불어민주당이 주장한 10%에도 미치지 못하는 수준이었다.
이후 여당과 업계가 불만을 제기하는 데도 정부는 반도체 세제 지원이 주요국과 비교해 높은 수준이라는 입장이었다. 그런데 지난해 12월 30일 윤석열 대통령이 "반도체 등 국가전략산업에 대한 세제지원을 확대하는 방안을 검토하라"고 지시한 뒤 입장을 바꿨다.
추경호 경제부총리는 "국가전략산업의 글로벌 경쟁력 확보와 함께 기업의 전반적인 투자심리를 회복하기 위한 획기적인 세제 지원 방안을 마련했다"고 설명했다. 정부는 이번 개정안으로 내년 세수가 3조6500억원 감소할 것으로 추산했다. 이후 2025∼2026년에는 연간 세수가 1조3700억원씩 줄어들 것으로 예상했다.
